專注水領域
追求卓越品質 締造世界品牌
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電子級超純水系統概述
當今半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需要大量的純水、超純水清洗成品、半成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級超純水為四個等級，分別為EW-I級≥18MΩ·cm，全硅≤2ug/L、EW-II級≥15MΩ·cm，全硅≤10ug/L，EW-III級≥12MΩ·cm，全硅≤50ug/L、EW級≥0.5MΩ·cm，全硅≤100ug/L 以區分不同的電子級超純水水質。其中對于超純水關鍵的指標如：電導率（電阻率）、總硅、PH值、顆粒度、微生物等均由不同的要求。因此線路板、電路板使用純水、超純水因為本身工藝流程的不同對超純水制造的工藝也不同。
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)
2、預處理系統→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)
3、預處理系統→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)
4、預處理系統→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)
電子半導體超純水系統通常直接接入國家自來水標準的水為源水，通常有多介質過濾器，活性炭過濾器，精密過濾器等構成預處理系統，另有RO反滲透主機系統，離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。系統水箱設有液位控制系統、水泵設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC，及通信遠程輸送至中控室上位機，實現現場就地和集中控制兩種操作方式，降低了人工的操作復雜度和維護工作量等，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，或者公司可按照客戶對于水質的要求進行特殊定制，既能保證用水水質達標，同時降低了所需成本，使該設備與其他同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
電子級超純水系統用水標準：
符合美國ASTM純水水質標準、電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準
電子級超純水系統選型表：
|
型 號 |
產水量 （L/H） |
電壓/功率范圍 （V / Kw） |
設備主機尺寸 (L*W*H mm) |
純水箱 |
產水水質 |
|
ZYUP-DH/E-250L |
250 |
380 / 1.95 |
2000*800*1600 |
氮封水箱 |
符合國家電子級用水標準 |
|
ZYUP-DH/E-500L |
500 |
380 / 2.05 |
2000*800*1600 |
氮封水箱 |
|
|
ZYUP-DH/E-1000L |
1000 |
380 / 2.20 |
2000*800*1600 |
氮封水箱 |
|
|
ZYUP-DH/E-1500L |
1500 |
380 / 2.80 |
2500*1000*1700 |
氮封水箱 |
|
|
ZYUP-DH/E-2000L |
2000 |
380 / 3.96 |
2500*1000*1700 |
氮封水箱 |
|
|
ZYUP-DH/E-3000L |
3000 |
380 / 6.65 |
3000*1200*1800 |
氮封水箱 |
|
|
ZYUP-DH/E-4000L |
4000 |
380 / 6.80 |
3000*1200*1800 |
氮封水箱 |
|
|
ZYUP-DH/E-5000L |
5000 |
380 /11.05 |
3500*1300*2000 |
氮封水箱 |
注：1、設備尺寸僅供參考，可根據用戶需求進行量身定做；
1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
5、液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
6、晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
7、集成電路生產中高純水清洗硅片
8、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
9、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
10、高品質顯像管、螢光粉生產
11、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
12、超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
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